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최근 수정 시각 : 2024-11-07 19:58:58

파크시스템스

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24년 10월
순위
기업명
시가총액
26 파일:서진시스템 로고.png
서진시스템
1조 5,271억원
27 파일:동진쎄미켐 CI.svg
동진쎄미켐
1조 4,936억원
28 파일:대주전자재료.jpg
대주전자재료
1조 4,936억원
29 파일:파크시스템스.png
파크시스템스
1조 4,770억원
30 파일:카카오게임즈 로고.svg
카카오게임즈
1조 4,535억원
31 파일:주성엔지니어링.jpg
주성엔지니어링
1조 4,534억원
32 파일:위메이드 로고.svg
위메이드
1조 4,428억원
33 파일:CJ ENM_CI_COLOR.svg
CJ ENM
1조 3,9300억원
34 HK 이노엔 1조 3,930억원
35 네이처셀 1조 3,740억원
36 파일:원익IPS 로고.svg
원익IPS
1조 3,547억원
37 파일:코오롱티슈진.svg
코오롱티슈진
1조 3,446억원
38 파일:스튜디오드래곤 로고.svg
스튜디오드래곤
1조 2,489억원
39 파일:8AA5khq.jpg
씨젠
1조 2,430억원
40 파일:메디톡스 로고.svg
메디톡스
1조 2,086억원
41 파일:브이티 로고.svg
브이티
1조 1,939억원
42 파일:신성델타테크.png
신성델타테크
1조 1,832억원
43 피엔티 1조 1,705억원
44 ISC 1조 1,595억원
45 파일:Lunit Logo.jpg
루닛
1조 1,564억원
46 파일:SOOP 로고.svg
SOOP
1조 794억원
47 중앙첨단소재 1조 696억원
48 제이앤티씨 1조 476억원
49 파일:LS머트리얼즈 CI.jpg
LS머트리얼즈
1조 425억원
50 HLB생명과학 1조 349억원
◀ 코스닥 상위 25위
}}}}}}}}} ||
파크시스템스 주식회사
Park Systems Corp.
파일:파크시스템스.png
<colbgcolor=#00a0e9><colcolor=#fff> 기업명 파크시스템스 주식회사
국가
[[대한민국|]][[틀:국기|]][[틀:국기|]]
대표 박상일
설립 1997년 4월 2일
업종 기타 측정, 시험, 항해, 제어 및 정밀기기 제조업
제품 반도체공정용원자현미경,첨단계측장비 제조,도매,무역
기업 분류 중소기업,벤처기업
종업원수 323명
상장 여부 상장
상장 시장 코스닥
종목 코드 140860
대주주 박상일최대주주 본인
시가총액 1조 4,980억원
매출액 1,448억원 (2023년도)
영업이익 276억원(2023년도)
순이익 246억원
자산총액 2017억원
부채총액 582억원
자본총액 1435억원
홈페이지 https://www.parksystems.com/kr
본사 경기도 수원시 경기도 수원시 영통구 광교로 109 한국나노기술원 4층
1. 개요2. 상세3. 원자현미경4. 제품5. 연구개발계획(향후 5년 로드맵)

[clearfix]

1. 개요

당사는 첨단 나노계측장비인 원자현미경(Atomic Force Microscope)을 개발, 생산하여 전 세계에 판매하는 기술벤처기업이다. 원자현미경은 시료의 형상과 물성을 나노미터 수준에서 계측하고 분석하는 장비로 나노기술의 발전에 핵심적인 역할을 해왔다. 원자현미경은 전자현미경으로 측정이 불가능한 극미세 구조를 고해상도로 관측할 수 있고 시료표면의 형상과 여러 가지 물리적 특성을 정량적으로 측정할 수 있기 때문에 반도체산업과 정보저장산업, 그리고 다양한 나노기술 연구에 활용되고 있으며 신물질, 에너지, 환경, 바이오, 의학진단 등 미래 산업에도 크게 기여할 수 있는 장비이다.

2. 상세

당사의 주요 수익 모델은 원자현미경이며, 현재 연구용 원자현미경과 산업용 원자현미경을 판매하고 있다. 당사의 당반기 연결 누적 매출액은 70,361백만원이며, 연구용 약 23%, 산업용 약 70%, 기타 소모품 및 서비스가 약 7% 비율로 이루어져 있다. 당반기 매출액 중 해외 수출은 약 92%, 국내 매출은 약 8%를 차지하고 있다.

3. 원자현미경

원자현미경은 원자, 분자 수준의 분해능을 갖는 나노계측장비로서 미세한 구조물의 형상 측정과 특성 분석에 널리 활용되고 있으며 나노기술 발전에 크게 기여를 해왔다. 최고 수천 배의 배율을 가진 광학현미경과 최고 수십만 배의 배율을 가진 전자현미경(SEM)에 비해 원자현미경의 배율은 최고 수천만 배에 달하며 특히 수직 방향의 분해능이 좋기 때문에 원자 지름의 수십 분의 일(0.01nm)까지도 측정이 가능합니다. 원자현미경은 높낮이와 각도 등 시료의 3차원적 형상을 정량적으로 측정할 수 있을 뿐 아니라 전자기적 특성, 기계적 특성, 광학적 특성 등 다양한 물리적 성질을 나노미터 수준에서 측정 분석할 수 있다. 뿐만 아니라 전자현미경은 진공 상태에서만 작동하는데 비해 원자현미경은 대기 중이나 액체 속에서도 작동이 가능하며 시료의 전도성과 관계없이 별도의 시료 준비과정을 거치지 않고 바로 측정이 가능합니다. 나아가 나노미터 수준에서 물체를 조작할 수 있고 나노리소그래피에도 응용이 가능하여 앞으로 nano-manufacturing 장비로도 활용될 수 있다.

4. 제품

파일:파크시스템스 현미경.png
왼쪽이 연구형 오른쪽이 산업용이다.
연구형
NX10:고성능으로 가장 정밀한 측정이 가능한 제품, 일반 나노기술 연구에 모두 사용 가능, 사용자 편리성이 고려된 다목적 장비로 작은 시료 측정에 사용하는 당사의 대표적 연구용 장비
NX20:고성능으로 가장 정밀한 측정이 가능한 제품, 일반 나노기술 연구 및 산업체 FA/QA 실험실에서 제품 성능 향상을 위한 연구에 사용 가능한 다목적 장비로 시료의 지름이 200mm까지 측정 가능한 대형 시료 측정용 장비
NX7:예산이 제한된 고객을 대상으로 가성비가 좋은 다목적 장비로 작은 시료 측정용 장비로 대학이나 연구소에서 사용가능, 대부분의 응용 옵션의 장착이 가능하여 일반 나노 기술 연구에 적합함
NX-Hivac: 공기 중에서 변성이 쉽게 되는 시료의 전기적 특성을 관찰하기 위한 고진공 장비로 자동 진공 조절 SW와 motorized stages & laser beam alignment 기능을 탑재하여 고객의 사용상의 편의성을 최대한 고려한 장비
FX40: AI와 로보틱스 기술을 더해, 새로운 차원의 자동화와 정확도, 편리성을 갖춘 장비. 탐침의 위치와 종류를 자동으로 인식하고 선택, 장착 가능. 실험 준비 단계까지 자동화함으로써 사용자 편의성을 극대화한 장비.
FX200:200mm 샘플용으로 설계된 최신 AFM. 생산성을 극대화하는 자동 탐침 인식 및 교체 기능, 레이저 빔 정렬, 매크로 광학 기능 탑재. 광학 자동 초점, 여러 좌표에서의 연속 측정 기능, 자동 데이터 분석 등을 통해 복잡한 작업을 간소화. 연구 및 산업 응용 분야에서 우수한 성능과 사용 편의성을 제공하는 장비

산업용
NX-HDM:하드디스크 media sample의 광학 장비로 검출이 불가능한 나노 크기의 defect(결함)를 자동화 기능(SW)으로 찾아서 분석하는 ADR 기능과, media의 성능을 좌우 하는 표면 조도(roughness)를 서브나노 스케일로 측정 가능한 장비로 측정의 재현성이 매우 좋아 하드디스크 산업체의 공정에 제공
NX-PTR:하드디스크 산업체의 헤드공정 라인에 제공되고 있는 장비로, PTR 제작의 품질 개선과 개발에 따른 제품 분석 장비로 경쟁사나 다른 분석 장비에 비해 좋은 분해능과 정확성 그리고 재현성을 가진 장비
NX-Wafer:시료의 단차와 너비의 결함 측정과 분석을 전자동으로 처리하여, 공정 상의 결점의 근원을 탐색하는데 사용되는 장비. 측정시 높은 정확성과 반복성을 유지하여 균일한 측정 결과 제공.전공정 및 후공정에 모두 사용이 되고 있으며, 정밀한 3차원 구조 측정이 필요한 공정에는 다양하게 적용.
NX-3DM: 오버행 프로파일, 고해상도 측벽 이미징, 그리고 각도 측정을 위한 전자동 AFM 시스템. 분리식 XY 및 Z 스캔 시스템과 Z스캐너의 회전기능을 통해 정확한 측벽 분석 결과 제공.
NX-TSH:대형 평판 디스플레이 측정 시에 형상의 정확도가 중요해지면서 Atomic Force metrology에 대한 수요가 증가함에 따라 대면적 샘플 측정을 위해 개발된 AFM 장비. 거칠기 측정, step height 측정, CD측정, 각도 측정 등의 측정치를 정확하게 측정하며 OLED, LCD 등에서 신뢰할 수 있는 고해상도 AFM 이미지 습득 가능.
NX-Hybrid WLI:반도체 및 관련 제품의 QA, 전공정 및 후공정 첨단 패키징을 아우르는 장비로서, 공정 제어 및 R&D 계측을 위해 WLI기술이 내장된 하이브리드 제품. WLI는 넓은 영역을 빠르게 측정하여 높은 처리량을 보여주는 광학기술이며, 원자현미경의 나노 단위 분해능 측정 능력과 결합되어 Advanced packaging 및 Wafer level 계측 등 원자현미경의 적용처를 더욱 확장.
NX-Mask:EUV 마스크를 위한 듀얼포드를 지원하며 마스크 패턴에 발생한 결함 및 파티클의 형상 측정 및 제거, 제거 후 검증까지 모든 과정을 하나의 솔루션으로 제공, 고비용의 마스크 공정, 특히 EUV 공정에서 생산원가를 낮추고생산성을 높일 수 있는 장비

5. 연구개발계획(향후 5년 로드맵)

1 물질 성분 분석용 NX-IR R300 시스템의 성능 개선
2 차세대 AFM controller 개발
3 FX System Option 개발
4 신규 광학 장비 (ISE) 도입을 위한 기반 기술 연구
5 NX-Hybrid WLI 성능 개선
6 Mask repair 기능 성능 개선
7 차세대 저가형 시스템 개발
8 FX40 자동화 성능 개선 연구
9 AFM 측정속도 개선 연구
10 Narrow Trench mode 개발
11 분석 SW 개발_SmartAnaysis
12 대면적 시료 분석 방법 연구 개발
13 ADR_자동 Defect Review System